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生产概况
主要设备清单
生产能力
工艺水平
生产设备
工艺水平

 

序号
项目
制程能力
1
层数 1-60 Layers
2
成品板厚 4-315mil(0.1mm – 6mm)
3
最大尺寸 864 x 610 mm (34" x 24")
4
可选用的基材 FR-4, CEM-1,CEM-3, High Tg, High CTI, Halogen Free.
5
成品板厚公差 ≤1.0mm ±0.10mm (±4mil) 1.0~1.6mm ±0.15mm(6mil)
6
内层最小线宽/线距 4/4mil (0.10mm)
7
内层最薄厚度 4/4mil (0.10/0.10mm)
8
外层最小线宽/线距 4/4mil(0.10mm)
9
层间对准度公差 ± 2mil (± 0.05mm )
10
铜箔厚度 12u,18u, 35u, 70 u, 105u, 140u, 175u, 210u (1/3oz-6oz)
11
最小成品孔径 0.15mm (6mil)   HDI< (0.1mm/4mil)
12
最小钻孔孔径 0.20mm/8min, HDI (0.1mm/4mil)
13
最大钻孔孔径 6.30mm
14
成品孔径公差(PTH) ± 0.076mm (±3mil)
15
成品孔径公差(NPTH) ± 0.050mm (±2mil)
16
孔位精度 ± 0.076mm (±3mil)
17
镀通孔孔铜厚度 18-25um (0.7-1.0mil)
18
板厚孔径比(最大) 13:1
19
板弯板翘 0.75%
20
SMT PAD最小尺寸 0.4±0.05mm (16±2mil)
21
最小防焊开窗 0.05mm (2mil)
22
最小防焊盖线 0.05mm (2mil)
23
最小防焊桥 0.1mm (4mil)
24
表面处理 有铅/无铅喷锡,电镀镍金,化学沉银,化学沉锡,沉金,OSP等
25
金手指金厚 0.76um max (30u“ max)
26
沉镍金厚度 Ni: 2.54-6um / Au: 0.05-0.15um (100-238U" / 2-6U")
27
沉银厚度 8-12U" (0.20um-0.30um)
28
沉锡厚度 0.8-1.2um (31.5-48U")
29
OSP膜厚 ENTEK PLUS HT:0.3-0.5um ; F2:0.15-0.3um
30
V-Cut 角度 30°、45°、60°
31
最薄V-cut板厚 0.4mm
32
金手指斜边角度 20°、30°、45°
33
成型 Routing & Punching
34
外形公差 ± 0.10mm (4mil)
35
E/T 测试电压 250 ± 5V
36
E/T 最大绝缘阻抗 100 MΩ±5%
37
E/T 最小导通电阻 10Ω


 

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